Сильноточный индукционный плазменный источник для обработки поверхностей материалов и изделий
Работа посвящена разработке источника плазмы с импульсным напуском газа. Такой источник способен обрабатывать поверхности больших площадей потоком плазмы с высокой интенсивностью и низкой энергией ионов.
Реферат 10
Введение 13
Глава 1. Литературный обзор 14
1.1 Воздействие плазмы на поверхность материала 14
1.2 Ионное распыление. 15
1.2.1. Характеристика распыленных частиц. 17
1.3. Формирование рельефа при распылении. 18
1.4. Кинетика химических реакций. 18
1.5. Плазма ВЧ разрядов, способы ее получения и применения 20
1.6. Характеристика ПХТ 25
Глава 2. Экспериментальная часть 27
2.1. Постановка целей и задач. 27
2.2. Реализация индукционного источника плазмы с импульсным напуском газа 28
2.3. Расчет основных параметров системы напуска газа 33
2.4. Диагностика источника плазмы 38
2.4.1. Измерение токов поясом Роговского 38
2.4.2. Измерение плазменного потока миниатюрной ячейкой Пеннинга 39
2.4.3. Измерение значения ионного тока 40
2.5. Результаты измерений 40
Заключение 45
Глава 3. Финансовый менеджмент, ресурсоэффективность и ресурсосбережение 46
3.1. Предпроектный анализ 46
3.1.1. Потенциальные потребители результатов исследования 46
3.1.2. Анализ конкурентных технических решений с позиции ресурсоэффективности и
ресурсосбережения 47
3.3. SWOT-анализ 50
3.4. Инициация проекта 52
3.4.1. Организационная структура проекта 53
3.4.2. Ограничения и допущения проекта. 55
3.5. План проекта 55
3.6. Разработка графика проведения НИОКР 56
3.7. Бюджет научно-технического исследования (НТИ) 58
3.8. Основная заработная плата исполнителей темы 59
3.9. Отчисления во внебюджетные фонды 61
3.10. Накладные расходы 62
3.11. Формирование бюджета затрат научно-исследовательского проекта 63
3.12. Реестр рисков 64
3.13. Определение ресурсной, финансовой, бюджетной, социальной и экономической
эффективности исследования 64
Глава4. Социальная ответственность 68
Введение 68
4.1. Правовые и организационные вопросы обеспечения безопасности 68
4.1.1. Специальные (характерные для рабочей зоны исследователя) правовые нормы трудового
законодательства 69
4.1.2. Организационные мероприятия при компоновке рабочей зоны исследователя 71
4.2. Профессиональная социальная безопасность 73
4.2.1. Обоснование мероприятий по защите исследователя от действия опасных и вредных
факторов 75
4.2.2 Электробезопасность 77
Вывод по разделу 81
Список использованных источников 82
Приложение А 85
Индукционный плазменный источник “В – типа” предназначен для
равномерной очистки материалов и изделий от загрязнений пучком
низкоэнергетических ионов. Данный источник основан на
индукционномпробое напускаемого газа.
В данной работе был разработан индукционный плазменный источник
для создания плазменных потоков различных газов для эффективной очистки
материалов и изделий. При проектировании такого источника были учтены
недостатки уже существующих источников: невысокая интенсивность
плазменного потока, т.к. накладывается ограничение на дальнейшее ускорение
(закон Чайлд – Ленгмюра) и недостаточная плотность плазмы, что вводит
ограничение на скорость обработки.
В ходе работы описана разработка эффективной системы подачи газа для
последующей ионизации. Параметры и геометрия такой системы просчитана
через газодинамические функции.
Выполнены необходимая диагностика такого источника. Измерены
значения плотности плазмы, плотности ионного тока, давления газового
потока, разрядные токи катушки и клапана. Для измерения:
Последние выполненные заказы
Хочешь уникальную работу?
Больше 3 000 экспертов уже готовы начать работу над твоим проектом!